双晶体NiTi形状记忆合金在无/有应力作用时效下的Ni4Ti3相沉淀行为模拟

运用相场方法研究双晶体NiTi形状记忆合金分别在无应力和有应力作用下时效过程中Ni4Ti3相的沉淀行为,模拟研究两种不同初始过饱和度(Ni含量分别为51.5％和52.5％,摩尔分数)的NiTi基体并考虑外加应力的影响.模拟结果表明,在无应力作用的体系中,当体系Ni原子初始浓度相对较低(51.5％ Ni)时,Ni4Ti3相以非均匀的方式析出,其中晶界上存在大量的Ni4Ti3变体,晶界内大部分区域无变体；当体系Ni原子初始浓度较高(52.5％Ni)时,Ni4Ti3在整个双晶体系中均匀析出.在所研究的两种初始浓度下,一定大小的外加应力将直接导致Ni4Ti3变体在整个模拟体系中均匀析出,而两晶粒中变体...

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Published in:	中国有色金属学报（英文版） Vol. 22; no. 10; pp. 2578 - 2585
Main Authors:	柯常波, 曹姗姗, 马骁, 张新平
Format:	Journal Article
Language:	Chinese
Published:	华南理工大学材料科学与工程学院,广州510640%华南理工大学材料科学与工程学院,广州,510640 2012 华南理工大学机械与汽车工程学院,广州510640
Subjects:	Ni4Ti3 precipitate martensitic transformation NiTi shape memory alloy 小角度晶界 Ni4Ti3沉淀相 low-angle grain boundary phase field simulation 相场法马氏体相变 NiTi形状记忆合金
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Summary:	运用相场方法研究双晶体NiTi形状记忆合金分别在无应力和有应力作用下时效过程中Ni4Ti3相的沉淀行为,模拟研究两种不同初始过饱和度(Ni含量分别为51.5％和52.5％,摩尔分数)的NiTi基体并考虑外加应力的影响.模拟结果表明,在无应力作用的体系中,当体系Ni原子初始浓度相对较低(51.5％ Ni)时,Ni4Ti3相以非均匀的方式析出,其中晶界上存在大量的Ni4Ti3变体,晶界内大部分区域无变体；当体系Ni原子初始浓度较高(52.5％Ni)时,Ni4Ti3在整个双晶体系中均匀析出.在所研究的两种初始浓度下,一定大小的外加应力将直接导致Ni4Ti3变体在整个模拟体系中均匀析出,而两晶粒中变体的类型分布有所不同.
ISSN:	1003-6326
DOI:	10.1016/S1003-6326(11)61503-3