Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films

Nickel oxide (NiO) films were deposited by using a homemade DC reactive magnetron sputtering system at different working pressure in the range (0.05-0.14)mbar. The effect of working pressure on the structure, surface morphology, optical of NiO films was investigated. X-ray diffraction (XRD) results...

Full description

Saved in:

Bibliographic Details
Published in:	Engineering and Technology Journal Vol. 33; no. 6B; pp. 1082 - 1092
Main Authors:	Khalaf, Muhammad Khammas, Abd Muslim, Shayma H., Talaq, Riyad N., Agul, Ibrahim R.
Format:	Journal Article
Language:	English
Published:	Baghdad, Iraq University of Technology 01-07-2015 Unviversity of Technology- Iraq
Subjects:	magnetron nickel oxide sputtering
Online Access:	Get full text
Tags:	Add Tag No Tags, Be the first to tag this record!

Description
Summary:	Nickel oxide (NiO) films were deposited by using a homemade DC reactive magnetron sputtering system at different working pressure in the range (0.05-0.14)mbar. The effect of working pressure on the structure, surface morphology, optical of NiO films was investigated. X-ray diffraction (XRD) results suggested that the deposited films were formed by nanoparticles with average particle size in the range of (8.145-29.195) nm. And the films are identified to be polycrystalline nature with a cubic structure along (111) and (101) orientation also Ni2O3 was found by XRD. The texture of the films was observed using SEM and AFM, it was observed that the grain size was increased with working pressure. The energy band gap was found to be in the range of (4.1 eV to 3.9 eV) When the film thickness varying from 73 nm to 146.9 nm. تم ترسیب أغشية اوكسید النیكل (NiO) باستخدام منظومة بلازما الماكنترون للتیارات المستمرة المحلیة الصنع و بطریقة الترذیذ التفاعلي و بضغوط عمل مختلفة ضمن المدى (0.04-0.05) ملي بار. و قد تم دراسة تأثیر ضغط العمل على تركیب و مورفولوجیة السطح و الخواص البصریة لأغشية اوكسید النیكل. و قد أظھرت نتائج حیود الأشعة السینیة أن الأغشية المترسبة ذات تركیب نانوي و بمعدل حجم حبیبي بین (8.145-29.195) نانومتر. بالإضافة لكون الأغشية ذات طابع متعدد التبلور مع بنیة مكعبة على طول (111)و(101) التوجھ. و علاوة على ذلك تم العثور على Ni2O3 بواسطة حیود الأشعة السینیة. كما تم دراسة تركیب الأغشية باستخدام SEM وAFM ، و قد لوحظ زیادة حجم الحبوب مع زیادة ضغط العمل. و قد وجد أن فجوة الطاقة في حدود (4.1) إلكترون - فولت إلى 3.9 إلكترون - فولت) عندما یكون سمك الغشاء یتراوح بین 73 نانومتر إلى 146.9 نانومتر.
ISSN:	1681-6900 2412-0758
DOI:	10.30684/etj.2015.116476