化学气相沉积制备碳化硅涂层的彩色现象原因浅析

TB332; 针对化学气相沉积(CVD)法制备碳化硅(SiC)涂层在工程应用中出现的彩色现象,采用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)等分析测试方法,研究了不同空气流量对CVD-SiC涂层表面形貌和组织结构的影响.结果表明:空气中的O2参与反应生成SiO2相是涂层表面出现彩色现象的主要原因;涂层中SiO2含量及涂层厚度的不同使涂层表面呈现彩色时颜色各异;随着空气流量增大,涂层表面SEM形貌由"砂砾状"演变为"菜花状",最后呈现为"棒状",导致涂层致密性下降....

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Published in:	材料保护 Vol. 56; no. 2; pp. 179 - 182
Main Authors:	李江涛, 孙佳庆, 魏庆渤, 张东生, 马美霞
Format:	Journal Article
Language:	Chinese
Published:	巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司, 河南 巩义 451200%巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司, 河南 巩义 451200 2023 郑州大学材料科学与工程学院, 河南 郑州 450001
Subjects:	化学气相沉积 SiC涂层 表面形貌 彩色现象 组织结构
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